光刻机一般分为扫描式光刻机和步进式光刻机两种，步进式光刻机为市场主流产品。步进式光刻机指把投影掩模版上的图形与涂胶硅片进行对准，而后从一点到另一点进行逐场曝光操作的光刻机。步进式光刻机可一次曝光多个芯片，具有生产效率高、精度高等优势，在芯片制造过程中应用较多。步进式光刻机由工件台、光源系统、光学系统、掩模台、浸液系统构成，工件台为其重要组成部分。工件台通常分为单工件台和双工件台，双工件台能有效提高生产效率，华卓精科为我国唯一掌握双工件台生产技术的企业。预计未来一段时间，在技术创新推动下，我国步进式光刻机行业发展速度将进一步加快。

　　根据新思界产业研究中心发布的《2023-2028年步进式光刻机行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，芯片为步进式光刻机主要需求端。步进式光刻机为芯片制造流程中实现光刻工艺的核心设备，其市场规模与芯片行业发展存在相关性。近年来，受国际市场芯片制裁影响，我国开启了芯片自主研发道路，带动其产量不断提升。据国家统计局数据显示，2021年我国芯片产量达3594.3亿颗，创造历史新高。在市场需求拉动下，步进式光刻机市场规模将不断扩大。

　　步进式光刻机行业技术壁垒较高，全球市场由海外龙头企业占据垄断地位。日本佳能株式会社（Canon）、日本尼康株式会社（Nikon）、荷兰阿斯麦公司（ASML）为全球步进式光刻机市场主要参与者。荷兰阿斯麦公司于上世纪八十年代研发出首台步进式光刻机，目前该公司已成为全球最大步进式光刻机生产商。

　　我国步进式光刻机行业起步较晚，加之海外龙头企业实行技术封锁，导致行业发展缓慢。但近年来，受益于国家政策支持，我国步进式光刻机行业迎来发展机遇。上海微电子装备、华卓精科等为我国步进式光刻机市场主要参与者。但目前，我国尚不具备步进式光刻机规模化生产能力，本土企业自主研发实力有待加强。

　　新思界行业分析人士表示，步进式光刻机为光刻机市场主流产品。受技术壁垒高等因素限制，我国具备步进式光刻机生产能力的企业较少，产品质量与海外龙头企业相比存在一定差距。未来在技术创新等积极因素带动下，国产步进式光刻机市场渗透率将不断提升。