对中国芯片来讲目前最高的一个难度，就是体现在了光刻机的身上，作为芯片生产的最核心设备之一，光刻机技术一直都被西方国家掌握着，而最先进的光刻技术则是在荷兰的ASML公司。

　　EUV极紫光光刻机光学系统复杂，可是说是突破光刻机的重中之重，上海的微电子SMEE研制的光刻机，使用的镜片高达数万美元一枚，除了镜片的要求之外，还需要的就是双工作台。

　　在ASMLTwinscan双工件台系统，也就是测光台与曝光台两个工件台相对独立，一个为晶圆做曝光的同时，另一个工件台则是能够为晶圆做后续的准备，如此循环交互之下大大地提高了光刻机的产能，正是因为这一项双工作台的技术，让荷兰的ASML公司成为了，世界上顶尖的芯片制造公司。

　　作为他们的独门绝技，没有想到有一天竟然会被中国企业突破，华卓精科的创始人朱煜从ASML宣布双工作台的时候，就已经开始着手研发这一项技术，一度因为没有经费和技术而搁浅，直到成立了华卓精科之后才开始真正突破，目前这一项技术已经正式的突破了

　　ASML的核心科技已经被正式突破，中国芯的诞生将会加快许多，你们对此事怎么看？欢迎评论区留言关注！